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ヨシカワ タカシ
YOSHIKAWA Takashi
吉川 隆士 所属 ノートルダム清心女子大学 情報デザイン学部 情報デザイン学科 職種 教授 |
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| 言語種別 | 日本語 |
| 発行・発表の年月 | 1992/05 |
| 形態種別 | 研究論文（学術雑誌） |
| 査読 | 査読あり |
| 標題 | Smooth and Vertical InP Reactive Ion Beam Ething with Cl2 ECR Plasma (Letter)
塩素ガスを用いたInPのム平滑垂直反応性イオンビームエッチング（査読付） |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Japanese Journal of Applied Physics (JJAP-part2) Letters, Vol.31, No.5B, pp.L655-L657 |
| 掲載区分 | 国内 |
| 概要 | （筆頭）塩素によるInPのドライエッチングの表面荒れ問題を高温(230℃) 、高イオンエネルギー（～1keV）でエッチングすることで、再付着、並びにInとPの脱離の差を減らし垂直平滑(凹凸≒100nm)エッチングを実現した。
3頁 共著者：T. Yoshikawa, S. Kohmoto, M. Ozaki, N. Hamao, Y. Sugimoto, M. Sugimoto, and K. Asakawa 本人担当部分：アイデア創出、実験、評価、論文全文執筆を共著者との議論を交えつつ実施 |