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ヨシカワ タカシ
YOSHIKAWA Takashi
吉川 隆士 所属 ノートルダム清心女子大学 情報デザイン学部 情報デザイン学科 職種 教授 |
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| 言語種別 | 日本語 |
| 発行・発表の年月 | 1998/01 |
| 形態種別 | 研究論文（学術雑誌） |
| 標題 | Dry Etching and Consequent Burring Regrowth of Nano-Size QW Stripes Using in situ UHV Multi Chamber System
ナノメータサイズ量子井戸作製のためのドライエッチングと埋込み後処理の真空一貫プロセスシステム（査読付） |
| 執筆形態 | 共著 |
| 掲載誌名 | Journal of Vacuum Science & Technology B, Vol.16, No.1, p.1-6 |
| 掲載区分 | 国内 |
| 概要 | （筆頭）マルチチャンバー真空一貫プロセス装置を用いて、ナノメータ幅の微小QWのエッチング、水素プラズマクリーニング、MBE埋め込み再成長を真空一貫で行った。エッチング表面が大気による酸化や汚染を受けないので非発光表面再結合が減り高い発光が得られ真空一貫プロセスにより表面再結合速度が約1/3に低減されることが確かめられた。
6頁 共著者：T. Yoshikawa, Y. Sugimoto, S. Kohmoto, S. Kitamura, K. Makita, Y. Nambu and K. Asakawa 本人担当部分：アイデア創出、実験、評価、論文全文執筆を共著者との議論を交えつつ実施 |